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岛津紫外分光光度计针对硅晶片表面光阻薄膜厚度测量(UV)

发布时间:2022-02-12   点击次数:618次

很多方法都可以用来测量薄膜的厚度。这些方法中,岛津紫外可见分光光度计提供了简便的、对薄膜厚度不造成损害的测量方式。对硅片上两个不同厚度的光阻层(0.5 µm, 3.0 µm)进行测量。结果发现,薄膜越薄,波的周期越长,反之亦然。

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允许对所有种类的薄膜进行简易的并且不造成薄膜厚度损害的测量。从薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一个干涉图。在一定波长范围内,薄膜的厚度可通过光谱上波的数量计算得到(在物质的折射率已知的情况下)。


分光光度计开始研发的目的是为了对液体样品进行吸光度检测。近些年,由于快速增加的固体反射率和吸光度测定要求,高精度高能量的分光光度计在市场上大受欢迎,包括对半导体、胶片、玻璃和其他吸附性固体材料。同时,生命科学领域中也需要高通量的分析仪对超痕量样品进行高速及高敏感度分析。药品及制药工业中则需要分析仪具备稳定性,可追踪性以及符合GXP和FDA 21 CFR Part11的合规性检测功能。因为,分光光度计软件必定支持这些功能。岛津研发了适用于此要求的硬件及软件。

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