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涂层光学晶片的自动分光光度空间分析

发布时间:2019/3/26   点击次数:178
 
提 供 商: 上海斯迈欧分析仪器有限公司 资料大小:
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频繁且经济有效的光谱表征对于开发具有竞争力的光学薄膜涂层非常 重要。完全自动化且无人值守的光谱测量有助于降低每次分析的成 本、提高分析效率,还有助于扩展质保程序。在生产过程中,满负荷 运转的沉积室中常会涂覆大面积、通常呈圆形的衬底晶片。的光 学表征工具必须能够在晶片被切割之前从用户的晶片表面的特征 点获得准确且有意义的信息。

 

专为 Cary 7000 型安捷伦分光光度计 (UMS) 和型 测量附件包 (UMA) 设计的安捷伦固体自动进样器可 容纳直径达 200 mm (8") 的样品,并提供 UV-Vis 和 NIR 光谱范围内的角度反射率和透射率数据。

 

此前的研究已经证明,将 Cary 7000 UMS 与自动 进样器相结合,能够对 32x 样品支架上的多个样品 进行自动化、无人值守的分析 [1],并对氧化锌锡 (ZTO) 涂层的线性能带隙梯度进行空间测绘 [2]。本 研究使用配备自动进样器的 Cary 7000 UMS 对直 径 200 mm 晶片上的涂层均匀性进行了自动化的角 度分辨测绘。

 

Cary 7000 UMS UV-Vis/NIR 分光光度计(图 1)专 为 250 nm 至 2500 nm 波长范围内的多角度光度 光谱 (MPS) 测量而设计。在 MPS 应用中,我们需 要测量样品在较宽入射角范围内(从接近垂直到 倾斜入射角)的反射率和/或透射率 [3]。近 有研究证明,MPS 数据对于复杂薄膜的逆向工程 [4]、深入了解电介质薄膜中总损耗的振荡 [5],以 及改进涂层生产步骤中应用的逆向工程策略 [6] 很 有帮助。

 
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