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使用ICP-MS/MS 对高纯度Nd2O3中的痕量稀土元素进行常规测定

发布时间:2019/10/24   点击次数:84
 
提 供 商: 上海斯迈欧分析仪器有限公司 资料大小:
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含稀土元素 (REE) 的高科技产品不断快速发展。因此,稀土元素的使 用已从玻璃抛光等成熟的应用扩展到高性能磁体、高科技催化剂、电 子、玻璃、陶瓷和合金等领域。第二丰富的 REE 为钕 (Nd),它与铁 和硼的合金 (NIB) 是超强永磁体中的重要材料,这些超强永磁体常用 于车辆部件、计算机数据存储设备、MRI 扫描仪和扬声器中。Nd 还 用于制造玻璃吹制工和焊工使用的玻璃和安全玻璃(钕镨混合物)。 随着 REE 越来越多地应用于高科技产品,对所有杂质的控制显得至 关重要。例如,高纯单元素 REE 材料中存在的其他 REE 杂质可能对 终产品的功能产生影响。因此,必须严格控制 REE 氧化物原材料 中的杂质。

 

电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 是测量痕量 REE 常用的原子光谱技术。其部分原因在于 REE 的 质谱图相对简单,尤其是相对于由 ICP-OES 等技 术产生的复杂的 REE 发射光谱图。然而,ICP-MS 测定低质量数 REE 基质中的中等质量数和高质量 数 REE 杂质时面临着较大的挑战,因为 REE 的金 属-氧化物 (M-O) 键能很高,且低质量数 REE 的氧 化物离子会与中等质量数和高质量数 REE 的 同位素发生重叠。例如,在分析高纯度 Nd2O3 中 的痕量 REE 时,145Nd16OH2 + 和 146Nd16OH+ 与镝的同位素 (163Dy+ ) 重叠,143Nd16O+ 与铽的同位素 (159Tb+ ) 重叠,148Nd16OH+ 与钬的同位素 ( 165Ho+ ) 重叠。虽然痕量 REE 分析物与 REE 基质的 分离可通过螯合树脂得以实现,但是这种技术耗 时,且需要根据所研究的特定分析物和基质元素定 制分离方法。显然,开发一种无需前处理、直接分 析各种高纯度 REE 基质中痕量 REE 杂质的方法非 常重要。

 
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